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解讀:當前光學元件超精密加工的兩大難點
07-15-2024
  解讀:當前光學元件超精密加工的兩大難點

  7月9日,由中國粉體網主辦的“2024高端研磨拋光材料技術大會”在河南鄭州成功召開。會議期間,我們邀請到多位專家學者、企業家代表做客“對話”欄目,圍繞高端研磨拋光材料的技術與應用現狀及發展方向進行了訪談交流。本期,我們分享的是河南工業大學班新星副教授的專訪。

當前光學元件超精密加工的兩大難點

  中國粉體網:請問班教授,光學元件的超精密制造工藝包括哪些關鍵環節?
  班教授:主要包括超精密磨削、快速拋光、精密修形等。磨削的作用是快速去除毛坯材料,并使元件達到一定的形狀要求;快速拋光則是消除由于磨削加工引起的表面和亞表面損傷,同時進一步提升加工精度;精密修形的目的是提升元件的面形精度,以達到使用的要求。
  中國粉體網:請問班教授,光學元件超精密加工的難點有哪些?
  班教授:光學元件屬于典型的硬脆難加工材料,加工過程中容易產生表面和亞表面損傷,如何有效控制缺陷的形成和提升加工精度是當前的難點。
  不同的加工工藝方法對缺陷和精度的影響是不同的。比如,全口徑拋光的加工效率高,但對低頻誤差的控制比較困難,而子口徑拋光能夠提升面形精度,但效率較低,并且容易引起中頻誤差。
  中國粉體網:請問班教授,實現超精拋光的方法主要有哪些?
  班教授:超精密拋光方法主要包括:小磨頭數控拋光、氣囊拋光、離子束拋光、磁流變拋光、等離子體拋光、射流拋光等。盡管這些方法都能夠實現光學元件最終納米級面形精度的控制。不過,元件尺寸、材質、形狀不同,所采用的方法也不一樣。
  中國粉體網:請問班教授,我國光學超精密加工技術與裝備發展水平如何?
  班教授:近年來得到了蓬勃發展,在天文望遠系統、強激光裝置等領域的光學元件制造工藝和裝備實現了自主可控,但在以光刻物鏡為代表的極端精度光學元件超精密加工方面與國外先進水平存在較大的差距。
  中國粉體網:請問班教授,您的研究方向主要涉及哪些方面?
  班教授:我的研究方向主要涉及面形控制、工藝優化、設備開發等方面,除了大口徑平面光學元件之外,目前也在開展第三代半導體晶圓超精密加工方面的研究工作,從軍品到民品輻射,將先進的加工技術不斷推廣到市場上去,實現工程化應用。
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